사업 내용
세정 공정은 반도체 전(前)공정 전반에서 반복 수행되는 핵심 공정으로, 증착·노광·식각 등에서 발생하는 화학적·물리적 잔류물과 미세 오염원을 제거해 후속 공정의 안정성과 수율을 확보한다. 삼양엔씨켐은 식각(Etching) 공정 이후 발생하는 포토레지스트(PR) 잔사 및 부산물을 제거하는 PERR(Post-Etch Residue Remover)용 중간체를 생산한다.
매출 및 수익성 추이
| 연도 | 매출 (억 원) | 전사 매출 비중 |
|---|---|---|
| 2025 | 344 | 27.43% |
| 2024 | 254 | 23.03% |
| 2023 | 161 | 16.35% |
주요 제품·서비스
- PERR(Post-Etch Residue Remover)용 중간체
경쟁 현황
세정 공정용 Wet-Chemical은 웨이퍼 표면 불순물·공정 부산물을 제거해 수율 향상에 기여하는 소재로, 시장점유율 통계는 비공개.
KPI
2025년 생산능력 3,708,039kg, 생산실적 1,805,124kg, 가동률 48.68%(2024년 55.49% 대비 하락).